محصول

سیلیکون کارباید

این نوع از سیلیکون کاربید کاربردهای بسیار مهمی در تولید رنگ، سرامیک و صنعت چسب سازی و تولید وسایل تزیینی و مجسمه سازی دارد. کاربرد اصلی آن در ساخت بدنه وسایل سرامیکی است.

رسوب دهی شیمیایی بخار

رسوب¬دهی شیمیایی بخار (CVD: Chemical Vapor Deposition) یک فرایند شیمیایی است که به منظور ایجاد یک لایه با کیفیت و با کارامدی بالا بر روی سطح استفاده می¬شود. ... های متنوعی را مانند نقاط کوانتومی، نانوساختار ...

روش‌های رسوب‌دهی شیمیایی بخار

در این مقاله برخی از روش های تولید نانوذرات با رسوب دهی بخار شیمیایی و اساس عملکرد آنها توضیح داده خواهد شد. ۱- انواع روش های رسوب دهی شیمیایی بخار. منابع زیادی مانند گرما، پلاسما، لیزر، فوتون ...

سیلیکون چیست

مقاومت شیمیایی: سیلیکون در برابر طیف وسیعی از مواد شیمیایی از جمله اسیدها، بازها، حلال ها و روغن ها مقاوم است. این خاصیت آن را برای استفاده در صنایع شیمیایی، داروسازی و خودروسازی مناسب می کند.

نانو پودر کربید سیلیکون 80 نانومتر NANO_SiC

شرایط ذخیره سازی نانوپودر کاربید سیلیکون (SiC): اتصال مجدد مرطوب بر عملکرد پراکندگی و استفاده از اثرات آن تأثیر می گذارد ، بنابراین ، این محصول باید در خلا بسته شود و در اتاق خشک و خنک نگهداری ...

سیلیکون کاربید

سیلیکون کارباید (Silicon Carbide) یا carborundum یک ماده­ ی سرامیکی بوده که نوع خالص آن بیرنگ است و وجود ناخالصی­هایی از قبیل آهن در ساختار تولیدات صنعتی آن موجب تغییر رنگ به سمت قهوه­ای و مشکی خواهد شد.صورت طبیعی آن به ندرت در کانی ...

اصول عملکرد CVD(رسوب دهی بخار شیمیایی) (مقاله و ویدئو)

رسوب دهی شیمیایی بخار (Chemical Vapor Deposition) از ابتدا به عنوان یک راه موثر برای ساخت طیف وسیعی از قطعات و محصولات به عنوان یک فرآیند تولید جدید در چندین بخش صنعتی شامل صنعت نیمه هادی، صنعت سرامیک و غیره توسعه داده شده است.

اِلمنت‌های حرارتی الکتریکی

المنت سیلیکون کاربید معمولاً یک لوله یا استوانۀ اکستروژن ساخته‌شده از دانه‌های بسیار خالص کاربید سیلیسیم است که از طریق فرایند پیوند واکنشی یا تبلور مجدد در دماهای بالای 2150 سانتی‌گراد (3900 ...

تجهیزات رسوب شیمیایی بخار سیلیکون کاربید

فرایند ضدخوردگی توسط مواد شیمیایی ضد رسوب و خوردگی. بازدارنده‌های شیمیایی خوردگی ترکیبات شیمیایی هستند که با افزوده شدن به مایع یا گاز میزان خوردگی یک ماده، عموما یک فلز یا آلیاژ، در معرض مایعات را کاهش میدهند.

بررسی اجمالی- (CVD) رسوب بخار شیمیایی

ر سوب بخار شیمیایی (cvd) فرآیندی است که برای ایجاد لایه های نازک از مواد بر روی یک بستر با استفاده از واکنش های شیمیایی در فاز بخار استفاده می شود. این تکنیک به طور گسترده در صنعت نیمه هادی برای ...

کاربید سیلیسیم یا سیلیکون کارباید

کاربید سیلیسیم یا سیلیکون کارباید. کاربید سیلیسیم یا سیلیکون کارباید – Silicon carbideیا کاربوراندم یا carborundum با فرمول شیمیایی SiC، یکی از مواد دیرگداز و نیمه رسانا است که به‌صورت خام در طبیعت یافت نمی‌شود.

طرح تولید سیلیسیم کاربید

طرح تولید سیلیسیم کاربید، یا سیلیکون کارباید (کاربوراندم) که با فرمول مولکولی SiC شناخته می شود از مواد نیمه رسانا و دیرگذار است که در طبیعت ... – رسوب بخار شیمیایی: ... ارزش ماشین آلات و تجهیزات ...

سیلیکون کارباید چیست و چه ویژگی های کاربردی دارد؟

"استحکام هسته" تجهیزات نیمه هادی – اجزای کاربید سیلیکون

با توجه به فرآیند آماده سازی، قطعات کاربید سیلیکون را می توان به کاربید سیلیکون ته نشینی بخار شیمیایی (cvd sic)، کاربید سیلیکون متخلخل واکنش، کاربید سیلیکون متخلخل شده تبلور مجدد، کاربید ...

سیلیکون کارباید چیست و چه ویژگی های کاربردی دارد؟

سایر تغییرات این ترکیب شامل سیلیکون کاربید پیوندی رس و سیلیکون کاربید پیوند SiAlON است. همچنین بخار شیمیایی سیلیکون کاربید رسوب یافته به نام CVD Silicon Carbide وجود دارد که یک شکل کاملاً خالص این ترکیب ...

پوشش CVD رسوب بخار شیمیایی بر روی اکسید سیلیکون یا سیلیکون

مهمترین فرآیند در هوموپیتاکسی رسوب سیلیسیم بر روی سیلیکون است ، در هتروپیتاکسی معمولاً یک لایه سیلیکون روی عایقی مانند اکسید (Silicon On Insulator: SOI) رسوب می کند. رسوب بخار شیمیایی (CVD) یک فرآیند پوششی ...

متیل تری کلروسیلان | Trichloromethylsilane

به عنوان ع امل در رسوب بخار شیمیایی (به عنوان پوشش الیاف کاربید سیلیکون) و به عنوان عامل تصفیه سطح (به عنوان سیلیس) استفاده می شود.

روش‌های رسوب‌دهی شیمیایی بخار

مقدمه: تولید نانوذرات با رسوب دهی شیمیایی بخار از قرن نوزدهم ظهور پیدا کرد. در سال ۱۹۶۰ این روش برای ساخت نیمه هادی ها، پوشش های کاربیدی روی ابزارهای تراشکاری و پوشش های تنگستنی مورد استفاده قرار گرفت.

[اصلی] غشای سرامیکی سیلیکون کاربید

3 روش تهیه فیلم سرامیکی کاربید سیلیکون. فن آوری های موجود در تهیه فیلم سرامیکی کاربید سیلیکون عبارتند از: روش انباشته ذرات، روش احیای کربوترمال، روش ترک خوردگی پلیمری و روش رسوب شیمیایی بخار.

کاربید سیلیسیوم

شرکت صنایع شیمیایی نوین آریا، فعالیت رسمی خود را از سال ۱۳۸۶ با تهیه، توزیع و فروش انواع مواد شمیایی در اصفهان آغاز نمود. در ابتدا فروش مواد شیمیایی آزمایشگاهی در اصفهان تحت برندهای مطرح بازار از جمله مرک، سیگما آلدریچ ...

گاز و کاربرد های آن در صنایع مختلف

آمونیاک بخشی از رسوب نیترید سیلیکون را به وسیله رسوب گیری بخار شیمیایی (cvd) در نیمه هادی و مواد پیشرفته جذب می کند. مدیریت زباله و آب آمونیاک در عملیات حرارتی استفاده می شود.

دانلود رایگان مقاله: تهیه پوشش کاربید سیلیکون (سیلیسیوم) به‌وسیله رسوب

برای اولین بار به‌وسیله رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (cvd) با استفاده از هگزامتیل‌دی‌سیلیل‌آمین (hmds، c6h19nsi2) به‌عنوان پیش‌ساز و n2 به‌عنوان گاز حامل در محدوده دمای متوسط، پوشش کاربید ...

نانو کربید سیلیکون 65-45 نانومتر SiC

مشخصات نانو پودر سیلیکون کارباید: سایز نانوذرات سیلیکون کربید: 65-45 نانو مترخلوص نانو پودر کربید سیلیکون: +99%مساحت سطح ویژه نانو ذرات: 80-40 متر مربع بر گرمپتانسیل زتا نانو کربید سیلیکون: 27.8- میلی ولترنگ نانو پودر سیلیکون ...

تولید نانومواد با روش رسوب‌دهی شیمیایی بخار

رسوب دهی شیمیایی بخار (cvd) یکی از کاربردی ترین متد ها در تهیه سطوح ویژه جهت ساخت تجهیزات با فناوری بالاست. در این مقاله سعی بر این است که توجه خود را بر روی رسوب دهی نیمه رساناها، برخی فلزات و در ...

کاربردهای الکترونیکی قدرت سیلیکون کاربید و نیترید گالیوم به 83 درصد از

اخبار: تامین کنندگان

روش رسوب دهی شیمیایی بخار-سنتز نانوساختارها

شرح:. روش رسوب دهی شیمیایی بخار-سنتز نانوساختارها : روش رسوب دهی از فاز بخار( cvd) فرایندی است که بوسیله ی آن یک ماده ی جامد از واکنش شیمیایی در فاز بخار بوجود می آید( این واکنش بر روی یک سطح زیرلایه ی گرم شده یا سرد انجام می ...

روش های تولید سیلیسیم کاربید | اپلیکیشن زینگ | باربری آنلاین

ساده ترین روش تولید کاربید سیلیکون شامل ذوب ماسه و کربن سیلیس مانند ذغال سنگ در دمای بالا تا 2500 درجه سانتیگراد است. نمونه های تیره تر و رایج تر از کاربید سیلیکون اغلب شامل ناخالصی های آهن و کربن هستند، اما کریستال های ...

دانلود رایگان مقاله: تهیه پوشش کاربید سیلیکون (سیلیسیوم) به‌وسیله رسوب

برای اولین بار به‌وسیله رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (cvd) با استفاده از هگزامتیل‌دی‌سیلیل‌آمین (hmds، c6h19nsi2) به‌عنوان پیش‌ساز و n2 به‌عنوان گاز حامل در محدوده دمای متوسط، پوشش کاربید سیلیکون (sic) بر روی زیرلایه (بستر ...

آشنایی با روش های رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار -CVD

روش رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (Chemical Vapor Deposition, CVD) به‌دلیل ویژگی‌های منحصربه‌فرد خود، به‌عنوان روشی کاربردی در تولید طیف وسیعی از قطعات سرامیکی و نیمه‌رسانا شناخته می‌شود. همچنین از این روش برای پوشش‌دهی سطوح ...

رسوب‌دهی شیمیایی بخار به کمک پلاسما (PECVD)

روش رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (pacvd یا pecvd) اولین بار در دهه ی ۱۹۶۰ برای کاربردهای نیمه رسانا توسعه داده شد و استفاده آن برای رسوب نیترید سیلسیم (سیلیکون نیترید) بود.